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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱:

華測-高溫管式爐/測試儀器

產(chǎn)品型號:

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

所在地:北京市

更新日期:2023-08-09

產(chǎn)品簡介:

華測-高溫管式爐/測試儀器。目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實現(xiàn)溫度的高的精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高的精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。

產(chǎn)品特性Product characteristics
品牌華測

產(chǎn)品介紹


      華測-高溫管式爐/測試儀器可實現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空,高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

     華測-高溫管式爐/測試儀器提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,在試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講,都節(jié)省時間并提高實驗速度。

      同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗人員的工作效率,!


設備優(yōu)勢

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),增設氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻。

溫度高的精度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。


反射爐溫度控制裝置

高速升溫時,配套的快速反應的紅外線反射爐控制裝置,本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能緊湊設計,響應速度愉。

為了高速加熱、設備采用PID溫度控制,同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度。

l 據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù),您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。

l 自適應熱電偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型

l 大可設定32個程序、256個步驟的程序。

l 30A、60A、120A內(nèi)置了SCR電路,所以范圍很廣。

l 250mmW*80mmD*57mmH小巧尺寸

設備配置




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